1 块体/薄膜样品尺寸最好长宽5mm-8mm，可以为正方形或者长方形，厚度最好不要超过2mm，涂完膜干燥后能看到薄薄一层样品即可，样品具有一定导电性，膜层的电阻最好小于10兆欧，最大不能超过30兆欧样品。样品过大，请联系技术顾问；
2 粉体样品需要制备为薄膜，具体制备方法如下：先把粉末样品分散在水或乙醇里（浓度尽量低点），滴在硅片上烘干，可以多循环几次，一定要保证膜表面尽量平整、均匀、连续、整洁，硅片尺寸最好长宽5mm-8mm，厚度几百μm，涂完膜干燥后膜层可以完全覆盖住硅片即可（膜层厚度10-50nm即可），膜层的电阻最好小于10兆欧，最大不能超过30兆欧。
1 块体/薄膜样品尺寸最好长宽5mm-8mm，可以为正方形或者长方形，厚度最好不要超过2mm，涂完膜干燥后能看到薄薄一层样品即可，样品具有一定导电性，膜层的电阻最好小于10兆欧，最大不能超过30兆欧样品。样品过大，请联系技术顾问；
2 粉体样品需要制备为薄膜，具体制备方法如下：先把粉末样品分散在水或乙醇里（浓度尽量低点），滴在硅片上烘干，可以多循环几次，一定要保证膜表面尽量平整、均匀、连续、整洁，硅片尺寸最好长宽5mm-8mm，厚度几百μm，涂完膜干燥后膜层可以完全覆盖住硅片即可（膜层厚度10-50nm即可），膜层的电阻最好小于10兆欧，最大不能超过30兆欧。
